Select HV Etch یک اچ اسید فسفریک با ویسکوزیته بالا و غلظت ۳۵% است که برای دقت بالا و هدفگذاری دقیق طراحی شده است.
Select HV Etch مادهای صاف و بدون کشیدگی ارائه میدهد که اجازه میدهد در تکنیک «هیبرید» به طور مؤثر عمل کند و حاشیههای مینا را بدون آسیب به عاج اچ کند. این ویژگی زمانی مفید است که میخواهید مینا را با self-etch adhesive ترکیبی کنید یا برای انجام روش سیل فوری عاج .
نظرات کاربران
ثبت دیدگاه
اگر درمورد محصول نظری یا سوالی دارید اینجا بپرسید
صفحه
1 / NaN